ALIGNMENT DEVICE

To suppress positional deviation when aligning a substrate and a mask during film deposition to improve alignment accuracy.SOLUTION: An alignment device includes: alignment means for controlling a relative position between a substrate and a mask on a plane along a surface to be deposited of the subs...

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Hauptverfasser: SUZUKI KENTARO, MISAWA KEITA, SATO SEIJI, NAGATA TETSUYA
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To suppress positional deviation when aligning a substrate and a mask during film deposition to improve alignment accuracy.SOLUTION: An alignment device includes: alignment means for controlling a relative position between a substrate and a mask on a plane along a surface to be deposited of the substrate; transfer means for transferring a relative position of the substrate to the mask in an intersection direction intersecting the plane; and measurement means for measuring a position of the substrate on the plane. The measurement means uses an alignment device for measuring a first position information on a tool mark affixed to the tool in the state of arranging a tool different from the substrate at a first height and measuring a second position information on the tool mark in the state of arranging the tool at a second height.SELECTED DRAWING: Figure 4 【課題】成膜における基板とマスクのアライメント時の位置ずれを抑制し、アライメント精度を向上させる。【解決手段】基板の被成膜面に沿った平面において、基板とマスクの相対位置調整を行うアライメント手段と、平面と交差する交差方向において、マスクに対する基板の相対位置を移動する移動手段と、平面における基板の位置を測定する測定手段を備え、測定手段は、基板とは別の治具を第1の高さに配置した状態において、治具に付された治具マークの第1の位置情報を測定し、治具を第2の高さに配置した状態において、治具マークの第2の位置情報を測定する、アライメント装置を用いる。【選択図】図4