DRAWING APPARATUS AND DRAWING METHOD

To improve throughput in a drawing apparatus that has a first substrate holding part and a second substrate holding part.SOLUTION: A drawing apparatus 1 includes a drawing head 41, a first stage 21a, a second stage 21b, and a first distance measuring sensor 5. While a pattern is drawn on a substrate 9 held by one stage, a sensor element 51 of the first distance measurement sensor 5 acquires a distance between the substrate and a measurement position on a substrate 9 held by the other stage. The drawing head 41 includes a second distance measuring sensor 412 that acquires a distance between the substrate held by the other state and a measurement position on the substrate 9 where the pattern is being drawn. A focus control unit of a control unit 10 controls a focus position of light emitted from the drawing head 41 using information acquired from the substrate 9 by the first distance measurement sensor 5 before the pattern is drawn and information acquired from the second distance measurement sensor 412 while the pattern is drawn on the substrate 9.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】第１基板保持部および第２基板保持部を有する描画装置において、スループットを向上する。【解決手段】描画装置１は、描画ヘッド４１と、第１ステージ２１ａおよび第２ステージ２１ｂと、第１測距センサ５とを有する。第１測距センサ５のセンサ要素５１は、一方のステージに保持された基板９にパターンが描画される間に、他方のステージに保持された基板９上の測定位置との間の距離を取得する。描画ヘッド４１は、パターンの描画を行っている基板９上の測定位置との間の距離を取得する第２測距センサ４１２を含む。制御部１０のフォーカス制御部は、パターンの描画前に第１測距センサ５により基板９から取得された情報と、当該基板９にパターンを描画中に第２測距センサ４１２から取得される情報とを用いて描画ヘッド４１から出射される光のフォーカス位置を制御する。【選択図】図１