SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

To provide a substrate processing apparatus which can efficiently suppress the formation of accumulation from a processing solution in a drain box/drain line.SOLUTION: A substrate processing apparatus includes a drain box for housing a solution drawn out in a prescribed process, a drain line for draining the solution from the drain box to the outside, and at least one injection member for providing gas and/or liquid in the drain box in order to block the air flowing into the drain box or to adjust the humidity in the drain box.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】ドレンボックスおよびドレンライン内において、処理溶液からの析出物の形成を効率よく抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置は、所定の工程で引き出される溶液を収容するためのドレンボックスと、前記ドレンボックスから前記溶液を外部に排出するためのドレンラインと、前記ドレンボックスに流入される空気を遮断するか、および／または前記ドレンボックス内の湿度を調節するべく、前記ドレンボックス内に気体および／または液体を提供するための少なくとも１つの噴射部材と、を備えている。【選択図】図１