ETCHING METHOD

To prevent an etching using a catalyst from causing a processing failure.SOLUTION: An etching method of an embodiment includes steps of: providing a plurality of openings or one or more opens for regulating a plurality of island-like parts to a part coating a first region on a substrate 10 having the first region and a second region to one principal surface, and forming a first layer 90 in which a part to which the second region is coated is a continuous film; forming a catalyst layer 80 containing a precious metal onto the part exposed in the plurality of openings of the principal surface or one or more opens by a plating method; coating the part adjacent to a boundary between the first and second regions of the catalyst layer 80, and forming a second layer 95 in which a part separated from the boundary of the catalyst layer 80 is exposed; and etching the substrate 10 with an etchant containing an oxidant and a hydrogen fluoride under the presence of the catalyst layer 80 and the second layer 95.SELECTED DRAWING: Figure 7 【課題】触媒を使用したエッチングにおいて、加工不良を生じ難くする。【解決手段】実施形態のエッチング方法は、一方の主面に第１及び第２領域を有する基板１０上に、前記第１領域を被覆した部分に複数の開口が又は複数の島状部を規定する１以上の開口が設けられ、前記第２領域を被覆した部分は連続膜である第１層９０を形成することと、貴金属を含んだ触媒層８０を、めっき法により、前記主面のうち前記複数の開口又は前記１以上の開口内で露出した部分の上に形成することと、前記触媒層８０のうち前記第１及び第２領域間の境界に隣接した部分を被覆し、前記触媒層８０のうち前記境界から離間した部分を露出させた第２層９５を形成することと、前記触媒層８０及び前記第２層９５の存在下、酸化剤と弗化水素とを含んだエッチング剤で、前記基板１０をエッチングすることとを含む。【選択図】図７