VAPOR DEPOSITION DEVICE AND MANUFACTURING APPARATUS OF DISPLAY PANEL INCLUDING THE SAME

To provide a vapor deposition device in which an uneven temperature of a surface to which a substrate is chucked is released, and provide a manufacturing apparatus of a display panel containing them.SOLUTION: A vapor deposition device contains: a susceptor SC in which a plurality of susceptor holes SC-OP are defined; an electrostatic chuck ESC which is arranged on the susceptor, and in which the plurality of susceptor holes SC-OP are defined; and a plurality of pins PN which penetrate and connect the susceptor SC and the electrostatic chuck ESC. Each of the plurality of pins PN comprises: a first part PN1 arranged in an inner part of the plurality of susceptor holes SC-OP; and a second part PN2 arranged in the inner part of the plurality of susceptor holes. The first part PN1 comprises: a first base part BS-PN1; and a first cooler CL-PN1 arranged in the inner part of the first base part BS-PN1, and thereby maintaining a uniform temperature of an upper part of the vapor deposition device, and preventing the generation of failure such as stain on a thin film manufactured by a vapor deposition device.SELECTED DRAWING: Figure 6 【課題】基板がチャッキングされる面の温度不均一が解消される蒸着装置及びそれを含む表示パネルの製造装置を提供する。【解決手段】蒸着装置は、複数のサセプタ孔ＳＣ－ＯＰが定義されたサセプタＳＣと、サセプタの上に配置され、複数の静電チャック孔ＥＳＣ－ＯＰが定義された静電チャックＥＳＣと、サセプタＳＣ及び静電チャックＥＳＣを貫通して連結する複数のピンＰＮと、を含む。複数のピンＰＮの夫々は、複数の静電チャック孔ＥＳＣ－ＯＰの内部に配置される第１部分ＰＮ１と、複数のサセプタ孔の内部に配置される第２部分ＰＮ２と、を含む。第１部分ＰＮ１は、第１ベース部ＢＳ－ＰＮ１と、第１ベース部ＢＳ－ＰＮ１の内部に配置される第１クーラーＣＬ－ＰＮ１と、を含むことで、蒸着装置の上部の温度が均一に維持されて、蒸着装置によって製造される薄膜にシミなどの不良が発生することを防止する。【選択図】図６