HIGH PERFORMANCE SUSCEPTOR APPARATUS
To resolve issues related to physical interaction between a substrate and a susceptor.SOLUTION: A substrate support and lift assembly configured to support a substrate and lift it from a susceptor is disclosed. The substrate support and lift assembly can include a susceptor support and a lift pin. T...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To resolve issues related to physical interaction between a substrate and a susceptor.SOLUTION: A substrate support and lift assembly configured to support a substrate and lift it from a susceptor is disclosed. The substrate support and lift assembly can include a susceptor support and a lift pin. The susceptor support can be configured to support the susceptor thereon. The susceptor support includes a plurality of support arms each extending radially from a central portion of the susceptor support to a terminus. Each of the support arms includes an aperture extending therethrough. The lift pin can be configured to fit through the aperture of a corresponding support arm to lift a substrate on the susceptor.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】基材とサセプタの間の物理的な相互作用に関連する問題を解消する。【解決手段】基材を支持し、サセプタから持ち上げるように構成された基材支持・リフト組立品が開示されている。基材支持・リフト組立品は、サセプタ支持体およびリフトピンを含むことができる。サセプタ支持体は、その上でサセプタを支持するように構成されることができる。サセプタ支持体は、サセプタ支持体の中央部分から末端にそれぞれ半径方向に延在する複数の支持アームを含む。複数の支持アームの各々は、それを通して延在する開口を含む。リフトピンは、サセプタ上の基材を持ち上げるために、対応する支持アームの開口を通して嵌合するように構成されることができる。【選択図】図1 |
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