PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD

To provide a photoresist composition and a pattern formation method.SOLUTION: A photoresist composition comprising an iodonium salt containing an acid sensitive polymer containing repeating units having a group unstable to acid; anion and cation and expressed by a formula (1) (in the formula, Z- is an organic anion; Ar1 is substituted or un-substituted C4 to 60 heteroaryl group containing a furan heterocycle; R1 is a substituted or un-substituted hydrocarbon group, and the cation may contain an acid labile group, and Ar1 and R1 are mutually connected via a single bond or one or more divalent linkage groups to form a ring, may be covalently bonded to a polymer via an Ar1 or via its substituent as the pendant group, may be covalently bound to the polymer via the R1 or via its substituent as the pendant group, or may be covalently bound to the polymer via the Z- as the pendant group); and a solvent.SELECTED DRAWING: None 【課題】フォトレジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を有する繰り返し単位を含む酸感受性ポリマーと；アニオン及びカチオンを含むヨードニウム塩であって式（１）を有するヨードニウム塩：JPEG2022073983000056.jpg24170（式中、Ｚ－は有機アニオンであり；Ａｒ１は、フラン複素環を含む置換若しくは無置換のＣ４～６０ヘテロアリール基であり；Ｒ１は置換若しくは無置換の炭化水素基であり、カチオンは、酸不安定性基を含んでいてもよく、Ａｒ１及びＲ１は、単結合又は１つ以上の二価の連結基を介して互いと連結して環を形成していてもよく、Ａｒ１を介して又はペンダント基としてのその置換基を介してポリマーに共有結合していてもよく、Ｒ１を介して又はペンダント基としてのその置換基を介してポリマーに共有結合していてもよく、又は、ペンダント基としてのＺ－を介してポリマーに共有結合していてもよい）と；溶媒とを含むフォトレジスト組成物。【選択図】なし