WAFER WASHING WATER SUPPLY SYSTEM AND SUPPLY METHOD FOR WAFER WASHING WATER

To provide a wafer washing water supply system which reduces excessive water, reduces the risk of mixture of a dissolved gas and is capable of saving the space.SOLUTION: A wafer washing water supply system 1 comprises: a wafer washing water manufacturing unit 2 which manufactures wafer washing water of a medicine concentration; a replenishing pipe 3 extending from the wafer washing water manufacturing unit 2; and a circulation type washing water supply pipe 4 connected to the replenishing pipe 3. The circulation type washing water supply pipe 4 is capable of feeding washing water through a feeding pump 11 to a use point 5, and a supply side flowmeter 12 is provided at a supply side 4A of the washing water supply pipe 4. A first supervisory monitor 16 interlocked with various water quality sensors is provided in a collecting pipe 15 for analysis. Further, a collection side flowmeter 21 is provided at a collection side 4B of the circulation type washing water supply pipe 4. Measurement results of the supply side flowmeter 12 and the collection side flowmeter 21 and water quality data from the various water quality sensors obtained in a second supervisory monitor 23 are transmitted to a control device, and the wafer washing water manufacturing unit 2 is controllable by the control device.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】 余剰水が少なく、溶存ガスの混入の恐れが低く、省スペース化の可能なウェハ洗浄水供給システムを提供する。【解決手段】 ウェハ洗浄水供給システム１は、薬剤濃度のウェハ洗浄水を製造するウェハ洗浄水製造部２と、ウェハ洗浄水製造部２から延在した補給管３と、この補給管３に接続した循環式の洗浄水供給管４とを有する。循環式の洗浄水供給管４は、送液ポンプ１１を介してユースポイント５に送液可能となっており、洗浄水供給管４の供給側４Ａには供給側流量計１２が設けられている。また、分析用分取管１５には、各種水質センサと連動した第一の監視モニタ１６が設けられている。さらに、循環式の洗浄水供給管４の回収側４Ｂには、回収側流量計２１が設けられている。これら供給側流量計１２と回収側流量計２１との測定結果と、第二の監視モニタ２３で得られた各種水質センサによる水質データとは制御装置に送信され、この制御装置によりウェハ洗浄水製造部２を制御可能となっている。【選択図】 図１