MONOLAYER ALUMINUM ALLOY MATERIAL FOR BRAZING AND MANUFACTURING METHOD OF ALUMINUM STRUCTURE

To provide a monolayer aluminum alloy material capable of brazing without using a flux even in an inert gas atmosphere containing relatively much moisture and oxygen and a manufacturing method of an aluminum structure using the monolayer aluminum alloy material.SOLUTION: A monolayer aluminum alloy m...

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Hauptverfasser: PHUMPRASOP KANOKPLOY, YAMAMOTO MASARU, ANDO MAKOTO
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a monolayer aluminum alloy material capable of brazing without using a flux even in an inert gas atmosphere containing relatively much moisture and oxygen and a manufacturing method of an aluminum structure using the monolayer aluminum alloy material.SOLUTION: A monolayer aluminum alloy material for brazing includes Si: 1.5 mass% or larger and 3.5 mass% or smaller, Fe: 0.05 mass% or larger and 2.00 mass% or smaller, Mn: 0.1 mass% or larger and 2.0 mass% or smaller, Mg: 0.005 mass% or larger and 0.500 mas% or smaller, Bi: 0.010 mass% or larger and 0.500 mass% or smaller, a remainder has a chemical composition consisting of Al and inevitable impurities and has a metallic structure in which a MgBi system compound is dispersed in an Al matrix. An area ratio of the MgBi system compound at any cross section is 0.05% or larger.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】水分や酸素を比較的多く含む不活性ガス雰囲気中においてもフラックスを使用せずにろう付を行うことができる単層アルミニウム合金材及びこの単層アルミニウム合金材を用いたアルミニウム構造体の製造方法を提供する。【解決手段】ろう付用単層アルミニウム合金材は、Si:1.5質量%以上3.5質量%以下、Fe:0.05質量%以上2.00質量%以下、Mn:0.1質量%以上2.0質量%以下、Mg:0.005質量%以上0.500質量%以下、Bi:0.010質量%以上0.500質量%以下を含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなる化学成分を有するとともに、Alマトリクス中にMgBi系化合物が分散した金属組織を有している。任意の断面における前記MgBi系化合物の面積率が0.05%以上である。【選択図】図1