DEVICE, PLANT FACILITY, DEVICE CONTROL METHOD, PROGRAM, PLANT SYSTEM, AND PLANT SYSTEM CONTROL METHOD

To accurately calculate a control target value of a control parameter based on an operation parameter, even when an operation condition for a plant instrument is changed.SOLUTION: A control device of a plant instrument comprises a control part and a function updating part. The control part determine...

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Hauptverfasser: TAKAYAMA KOJI, MIZOWAKI YUTAKA, UEDA YUYA
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To accurately calculate a control target value of a control parameter based on an operation parameter, even when an operation condition for a plant instrument is changed.SOLUTION: A control device of a plant instrument comprises a control part and a function updating part. The control part determines a control target value of a control parameter corresponding to a first operation parameter using function, and controls the plant instrument so that the control parameter is equal to the control target value. The function updating part updates the function on the basis of a deviation between an actual measured value and a target value of an operation state parameter of the plant instrument. Further the function updating part updates the function by adding a bias value to the control target value of the control parameter, in an area including the actual measured value of the first operation parameter, of a plurality of areas defined based on a value of the first operation parameter of the function.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】プラント機器の運転条件が変更された場合においても、操作パラメータに基づく制御パラメータの制御目標値を精度よく算出する。【解決手段】プラント機器の制御装置は、制御部と、関数更新部とを備える。制御部は、関数を用いて第1操作パラメータに対応する制御パラメータの制御目標値を求め、制御パラメータが制御目標値になるようにプラント機器を制御する。関数更新部は、プラント機器の運転状態パラメータの実測値と目標値との偏差に基づいて、関数を更新する。また関数更新部は、関数のうち第1操作パラメータの大きさに基づいて規定される複数の領域のうち、第1操作パラメータの実測値が含まれる領域において、制御パラメータの制御目標値にバイアス値を加算することにより、関数を更新する。【選択図】図2