SETTING METHOD OF SETTING INFORMATION USED FOR SUBSTRATE PROCESSING MONITORING, MONITORING METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

To provide a technique that a proper position of a monitoring object used for a monitoring processing can be automatically set.SOLUTION: A setting method of setting information used for a substrate processing monitoring, comprises: a setup recipe step S12 of controlling a movement mechanism moving a first monitoring object in a substrate processing device to move the first monitoring object to a first stop position; a setup imaging step of imaging the first monitoring object with a camera by executing it in parallel with the setup recipe step S12; and a setting step S16 of detecting a position of the first monitoring object in first image data, and setting the position as a proper position related to the first stop position on the basis of the first image data acquired by the camera in the setup imaging step and containing the first monitoring object stopped at the first stopping position and first reference image data indicating at least one part of the first monitoring object.SELECTED DRAWING: Figure 7 【課題】監視処理に用いられる監視対象の適正位置を自動で設定できる技術を提供する。【解決手段】基板処理監視に用いる設定情報の設定方法は、基板処理装置内の第１監視対象物を移動させる移動機構を制御して、前記第１監視対象物を第１停止位置に移動させるセットアップレシピ工程Ｓ１２と、セットアップレシピ工程Ｓ１２と並行して実行され、カメラが第１監視対象物を撮像するセットアップ撮像工程と、セットアップ撮像工程においてカメラによって取得され、第１停止位置で停止する第１監視対象物を含む第１画像データと、第１監視対象物の少なくとも一部を示す第１参照画像データとに基づいて、第１画像データ内における第１監視対象物の位置を検出し、当該位置を前記第１停止位置に関する適正位置として設定する設定工程Ｓ１６と、を備える。【選択図】図７