SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

To provide a technique capable of easily maintaining a chamber for defining a substrate processing space at which processing for a substrate is performed therein.SOLUTION: A substrate processing device disclosed herein comprises a first chamber, a substrate support, an actuator, a second chamber, and at least one fixing tool. The substrate support and the second chamber are arranged in an internal space of the first chamber. The actuator moves the substrate support between a first position and a second position. The second chamber defines the substrate processing space together with the substrate support when the substrate support is at the first position. The second chamber can be transferred between the internal space of the first chamber and the outside through an opening of the first chamber when the substrate support is at the second position. At least one fixing tool releasably fixes the second chamber to the first chamber at the internal space of the first chamber.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】その中で基板に対する処理が行われる基板処理空間を画成するチャンバを容易にメンテナンスすることを可能とする技術を提供する。【解決手段】開示される基板処理装置は、第１のチャンバ、基板支持器、アクチュエータ、第２のチャンバ、及び少なくとも一つの固定器具を備える。基板支持器及び第２のチャンバは、第１のチャンバの内部空間内に配置される。アクチュエータは、基板支持器を第１の位置と第２の位置との間で移動させる。第２のチャンバは、基板支持器が第１の位置にあるときに基板処理空間を基板支持器と共に画成する。第２のチャンバは、基板支持器が第２の位置にあるときに第１のチャンバの開口を介して第１のチャンバの内部空間と外部との間で搬送可能である。少なくとも一つの固定器具は、第１のチャンバの内部空間において第２のチャンバを第１のチャンバに解除可能に固定する。【選択図】図２