METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL DEVICE AND SOLAR CELL DEVICE

To provide a method for manufacturing a solar cell device capable of being simplified and preventing damage to an interconnect (plated electrode).SOLUTION: A method for manufacturing a solar cell device 1 to which a plurality of solar cells 2 are connected in series from a large-sized semiconductor...

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1. Verfasser: ASATANI TSUYOSHI
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a method for manufacturing a solar cell device capable of being simplified and preventing damage to an interconnect (plated electrode).SOLUTION: A method for manufacturing a solar cell device 1 to which a plurality of solar cells 2 are connected in series from a large-sized semiconductor substrate 11 comprises the steps of: forming a first conductivity type semiconductor layer 25 and a second conductivity type semiconductor layer 35 on a rear surface side of the substrate 11; separating between the plurality of solar cells 2 (first dicing step); forming a base electrode layer 29 on the semiconductor layer 25 and a base electrode layer 39 on the semiconductor layer 35; connecting the plurality of solar cells 2 in series by forming a plated electrode 3 on the base electrode layers 29 and 39 across a separation groove formed in the first dicing step in adjacent solar cells among the plurality of solar cells 2; and separating a formation region of the solar cell device 1 from the substrate 11 (second dicing step).SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】簡易化が可能であり、かつ、インターコネクト(めっき電極)のダメージを防止可能な太陽電池デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】太陽電池デバイスの製造方法は、大判半導体基板11から、複数の太陽電池セル2が直列接続された太陽電池デバイス1を製造する方法であって、基板11の裏面側に第1導電型半導体層25および第2導電型半導体層35を形成する工程と、複数の太陽電池セル2の間を分離する第1ダイシング工程と、半導体層25、35上に下地電極層29,39を形成する工程と、複数の太陽電池セル2のうちの隣り合う太陽電池セルにおいて、下地電極層29,39上に、第1ダイシング工程において形成された分離溝を跨いでめっき電極3を形成することによって、複数の太陽電池セル2を直列接続する工程と、太陽電池デバイス1の形成領域を基板11から分離する第2ダイシング工程と、を備える。【選択図】図3