MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION DEVICE AND MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION DEVICE

PURPOSE: To provide an irradiation device capable of reducing the Coulomb effect acting on a multi-beam.CONSTITUTION: A multi-electron beam irradiation device according to an embodiment of the present invention includes a molded aperture array substrate 203 forming a multi-charged particle beam, a multipole deflector array 220 that individually deflects each beam of a multi- electron beam such that the central axis orbit of each beam of the multi-charged particle beam is not focused in the same plane orthogonal to the orbit central axis direction of the multi-charged particle beam, and not focused in the same plane orthogonal to the orbit central axis direction, and a primary electron optics system 151 that irradiates a substrate with the multi-electron beam while the multi-electron beam remains unfocused.SELECTED DRAWING: Figure 1 【目的】マルチビームに作用するクーロン効果を低減することが可能な照射装置を提供する。【構成】本発明の一態様のマルチ電子ビーム照射装置は、マルチ荷電粒子ビームを形成する成形アパーチャアレイ基板２０３と、マルチ荷電粒子ビームの各ビームの中心軸軌道がマルチ荷電粒子ビームの軌道中心軸方向に直交する同一面内で集束しないように、軌道中心軸方向に直交する同一面内で集束しないように、マルチ電子ビームの各ビームを個別に偏向する多極子偏向器アレイ２２０と、マルチ電子ビームが集束されないままの状態で、マルチ電子ビームで基板を照射する１次電子光学系１５１と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図１