PARTICLE BEAM DEVICE
To provide a particle beam device capable of reducing the size and the cost.SOLUTION: A particle beam device 1 comprises a deflection electromagnet 15 in which each of ion beams B1 and B2 can be conducted from a first ion source 11 and a second ion source 12, each having a different ion type, and ca...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide a particle beam device capable of reducing the size and the cost.SOLUTION: A particle beam device 1 comprises a deflection electromagnet 15 in which each of ion beams B1 and B2 can be conducted from a first ion source 11 and a second ion source 12, each having a different ion type, and can selectively eject one of the ion beams B1 and B2 by switching a magnetic field strength to a beam transportation system 19. The deflection electromagnet 15 includes: a deflection function deflecting the ion beam to be ejected to the beam transportation system 19 toward the beam transportation system 19; an analysis function reducing the ejection of a different type mixed into the ion beam to the beam transportation system 19.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】小型化及び低コスト化を図ることができる粒子線装置を提供することを目的とする。【解決手段】粒子線装置1は、互いにイオン種が異なる第1イオン源11及び第2イオン源12からのそれぞれのイオンビームB1,B2が導入可能であり、イオンビームB1,B2のうちの一つを磁場強度の切替えによって選択的にビーム輸送系19に出射可能な偏向電磁石15を備え、偏向電磁石15は、ビーム輸送系19に出射すべきイオンビームをビーム輸送系19に向けて偏向する偏向機能と、当該イオンビームに混入している異種のビームのビーム輸送系19への出射を低減する分析機能と、を有する。【選択図】図1 |
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