MEASUREMENT APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND MEASUREMENT METHOD

To provide a technology of measuring a pattern shape accurately for a long period.SOLUTION: A measurement apparatus includes a conveyance unit, an imaging unit, a camera height measurement unit, a temperature detection unit, and a control unit. The conveyance unit conveys a substrate with a pattern formed thereon. The imaging unit is arranged above the conveyance unit to image the pattern on the substrate placed on the conveyance unit. The camera height measurement unit is arranged near the imaging unit to measure a height from a pattern surface of the substrate where the pattern is formed to a lens of the imaging unit. The temperature detection unit detects temperature in a plurality of spots around the imaging unit. The control unit controls the above units. The control unit corrects the height from the pattern surface of the substrate to the lens of the imaging unit measured by the camera height measurement unit, on the basis of the temperature in the spots around the imaging unit detected by the temperature detection unit.SELECTED DRAWING: Figure 4 【課題】パターン形状を長期にわたって精度よく測定することができる技術を提供する。【解決手段】本開示の一態様による測定装置は、搬送部と、撮像部と、カメラ高さ測定部と、温度検出部と、制御部とを備える。搬送部は、パターンが形成された基板を搬送する。撮像部は、搬送部の上方に配置され、搬送部に載置された基板のパターンを撮像する。カメラ高さ測定部は、撮像部の近傍に配置され、パターンが形成される基板のパターン面から撮像部のレンズまでの高さを測定する。温度検出部は、撮像部周辺の複数箇所の温度を検出する。制御部は、各部を制御する。また、制御部は、温度検出部で検出される撮像部周辺の複数箇所の温度に基づいて、カメラ高さ測定部で測定される基板のパターン面から撮像部のレンズまでの高さを補正する。【選択図】図４