VAPOR DEPOSITION SOURCE OF VACUUM DEPOSITION APPARATUS

To provide a vapor deposition source for a vacuum deposition apparatus capable of discharging a vapor deposition material with a high directivity.SOLUTION: A vapor deposition source DS for a vapor deposition apparatus Dm for a vapor deposition to an object to be vapor-deposited arranged in a vacuum chamber 1 includes an accommodation box 51 for accommodating a vapor deposition material 4 and heating means 53 for heating the vapor deposition material. A discharge nozzle 6 for discharging the vapor deposition material evaporated or sublimated by heating is arranged protruding from an upper surface 51 of the accommodation box facing the object to be vapor-deposited. The discharge nozzle is provided with a reduction part 62a of which a passage cross-sectional area reduces gradually toward an upper direction, and an enlarged part 62b of which a passage cross-sectional area increases gradually toward the upper direction from the reduction part.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】蒸着物質を高い指向性で放出させることができる真空蒸着装置用の蒸着源を提供する。【解決手段】真空チャンバ１内に配置されて被蒸着物Ｓｗに対して蒸着するための真空蒸着装置Ｄｍ用の蒸着源ＤＳは、蒸着物質４を収容する収容箱５１とこの蒸着物質を加熱する加熱手段５３とを備え、被蒸着物に対向する収容箱の上面５１ａに、加熱により気化または昇華した蒸着物質を放出する放出ノズル６が突設され、放出ノズルに、上方に向かってその通路断面積が次第に縮小する縮小部６２ａと、縮小部から上方向に向かって通路断面積が次第に拡大する拡大部６２ｂとが設けられる。【選択図】図２