MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, PRODUCTION METHOD OF ARTICLE, AND PROGRAM

To provide a measurement method advantageous for measuring measurement marks formed in a shot area on a base plate.SOLUTION: A measurement method includes steps of: calculating first positional information of a shot area on the basis of measured values of measurement marks of a first number, obtained by executing a first measurement mode of measuring the measurement marks of the first number out of a plurality of measurement marks of the shot area on a base plate; predicting second positional information of the shot area with respect to each of a plurality of models for calculating positional information of the shot area on the basis of the first positional information when it is assumed that measurement marks of a second number less than the first number are measured; determining a plurality of first evaluation values corresponding to the plurality of models from the second positional information; and transiting from the first measurement mode to a second measurement mode of measuring the measurement marks of the second number on the basis of a model corresponding to the first evaluation value satisfying a valuation basis out of the plurality of first evaluation values.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】基板上のショット領域に形成された計測マークを計測するのに有利な計測方法を提供する。【解決手段】基板上のショット領域に形成された複数の計測マークのうち第１の数の計測マークを計測する第１計測モードを実行して得られる前記第１の数の計測マークの計測値に基づいて、当該ショット領域の第１位置情報を算出する工程と、前記第１の数よりも少ない第２の数の計測マークを計測すると仮定した場合に、前記第１位置情報に基づいて、前記ショット領域の位置情報を算出するための複数のモデルのそれぞれについて、前記ショット領域の第２位置情報を予測する工程と、前記第２位置情報から前記複数のモデルのそれぞれに対応する複数の第１評価値を求める工程と、前記複数の第１評価値のうち評価基準を満たす第１評価値に対応するモデルに基づいて、前記第１計測モードから前記第２の数の計測マークを計測する第２計測モードに遷移させる工程と、を有する。【選択図】図３