EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE SYSTEM, INFORMATION PROCESSOR, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

To provide an exposure device capable of shortening adjustment time in a height direction of an optical axis at the time of exposure start even when a state of a substrate is changed or when a large-sized substrate is processed.SOLUTION: An exposure device M300 for transferring a pattern of an original plate M303 onto each of a plurality of shot regions of a substrate by exposing the substrate with light includes: a calculation part M312 for calculating a moving amount in a height direction of a substrate stage M307 from a standby position of the substrate M306 to a start position of exposure before the exposure of the shot regions is started; and a storage part M320 for storing management information including any one item of layer information on a pattern formed on at least the shot regions and lot information on the substrate M306, and a moving amount in association with each other. The calculation part M312 acquires the moving amount based on the management information on the shot regions of an exposure object from the storage part M320, and determines a standby position before exposure of the shot regions being the exposure object is started based on the acquired moving amount.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】基板の状態が変わる場合や、大型の基板に処理を実施する場合においても、露光開始時の光軸の高さ方向の調整時間を短縮できる露光装置を提供する。【解決手段】基板を露光することで、基板の複数のショット領域のそれぞれに原版Ｍ３０３のパターンを転写する露光装置Ｍ３００であって、ショット領域の露光を開始する前の基板Ｍ３０６の待機位置から露光の開始位置までの基板ステージＭ３０７の高さ方向の移動量を算出する演算部Ｍ３１２と、少なくともショット領域に形成されるパターンの層情報、および、基板Ｍ３０６のロット情報のいずれか一方の項目を含む管理情報と、移動量と、を関連付けて記憶する記憶部Ｍ３２０と、を有し、演算部Ｍ３１２は、露光対象のショット領域の管理情報に基づいて移動量を記憶部Ｍ３２０から取得し、取得した移動量に基づいて露光対象のショット領域の露光を開始する前の待機位置を決定する。【選択図】図３