LASER PROCESSING DEVICE AND LASER PROCESSING METHOD

To provide a laser processing device and a laser processing method in which deterioration in productivity due to output adjustment can be suppressed.SOLUTION: In a laser processing device, a laser beam irradiating unit 20 comprises a laser oscillator 22, a condensing lens 27 that condenses a laser b...

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Hauptverfasser: TANAKA KEI, SATO YURIKO, ICHINOMIYA YUKI
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a laser processing device and a laser processing method in which deterioration in productivity due to output adjustment can be suppressed.SOLUTION: In a laser processing device, a laser beam irradiating unit 20 comprises a laser oscillator 22, a condensing lens 27 that condenses a laser beam 21 oscillated from the laser oscillator 22, and a spatial light modulator 24, arranged between the laser oscillator 22 and the condensing lens 27, which has a display part 241 on which a predetermined pattern is displayed. A superimposed pattern in which a master pattern for attenuating output at a processing point 28 of the laser beam 21 and an adjustment pattern for adjusting optical characteristics at the processing point 28 of the laser beam 21 are superimposed is inputted from inputting means, and the superimposed pattern inputted from the inputting means is displayed by the control part on the display part 241 of the spatial light modulator 24, so as to adjust output at the processing point 28.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】出力調整による生産性の低下を抑制することができるレーザー加工装置およびレーザー加工方法を提供すること。【解決手段】レーザー加工装置において、レーザービーム照射ユニット20は、レーザー発振器22と、レーザー発振器22から発振されたレーザービーム21を集光する集光レンズ27と、レーザー発振器22と集光レンズ27との間に配設され、所定のパターンを表示させる表示部241を有した空間光変調器24と、を備え、レーザービーム21の加工点28での出力を減衰するためのマスクパターンと、レーザービーム21の加工点28での光学的特性を調整するための調整パターンと、を重畳した重畳パターンを入力手段から入力し、入力手段から入力された重畳パターンを制御部が空間光変調器24の表示部241に表示させることで、加工点28における出力を調整する。【選択図】図3