FILM DEPOSITION APPARATUS

To provide a film deposition apparatus capable of depositing a film under a further appropriate condition to obtain a desired film.SOLUTION: In a film deposition apparatus 1, a monitoring unit 52 is capable of monitoring an energy of multiple characteristic parts FP1, FP2 and FP3 in an energy distribution of particles to form a predetermined material film. The monitoring unit 52 is capable of monitoring an energy distribution further accurately by monitoring not a single characteristic part of the energy distribution (for example, monitoring only a characteristic part FP3) but monitoring an energy of the multiple characteristic parts FP1, FP2 and FP3. Accordingly, a film deposition control unit 54 is capable of adjusting a film deposition condition to obtain a desired film with accurate understanding of an energy distribution status. Therefore, a film deposition can be performed under a further appropriate condition to obtain the desired film.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】所望の膜を得るために更に適切な条件で成膜を行うことができる成膜装置を提供する。【解決手段】成膜装置１において、監視部５２は、所定の物質の膜を形成するための粒子のエネルギー分布の内の複数の特徴部ＦＰ１，ＦＰ２，ＦＰ３のエネルギーを監視することができる。監視部５２は、エネルギー分布の単一の特徴部（例えば特徴部ＦＰ３のみの監視など）ではなく、複数の特徴部ＦＰ１，ＦＰ２，ＦＰ３のエネルギーを監視することで、エネルギー分布の状況をより正確に把握することができる。従って、成膜制御部５４は、エネルギー分布の状況を正確に把握した上で、所望の膜を得るための成膜条件を調整することができる。以上より、所望の膜を得るために更に適切な条件で成膜を行うことができる【選択図】図１