EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE

To provide a technique useful for measuring imaging characteristics of a projection optical system without performing exposure or development.SOLUTION: An exposure device has an illumination system that illuminates a mask disposed on a to-be-illuminated face, a projection optical system that projects an image of the mask to a substrate, a substrate stage that supports the substrate, a sensor mounted on the substrate stage, and a control unit that controls the sensor. The control unit performs a detection process of detecting the imaging positions of at least two marks selected from a plurality of marks disposed on the to-be-illuminated face by using the sensor, the detection process to be performed plural times. Between each detection process, a movement process is performed to move the substrate stage having the sensor mounted thereon. The movement of the substrate stage in the movement process is performed so as to have a commonality between a part of the at least two marks selected from the plurality of marks in a detection process before the movement process and a part of the at least two marks selected from the plurality of marks in the detection process after the movement process.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】露光および現像を行うことなく、投影光学系の結像特性を計測するために有利な技術を提供する。【解決手段】露光装置は、被照明面に配置されたマスクを照明する照明系と、マスクの像を基板に投影する投影光学系と、基板を支持する基板ステージと、基板ステージに搭載されるセンサと、センサを制御する制御部とを備える。制御部は、被照明面に配置される複数のマークから選択される少なくとも２つのマークの結像位置をセンサを使って検出する検出処理を複数回にわたって実施し、検出処理と検出処理との間において、センサが搭載された基板ステージを移動させる移動処理を実施する。移動処理における基板ステージの移動は、移動処理の前の検出処理において前記複数のマークから選択される少なくとも２つのマークの一部と前記移動処理の後の前記検出処理において前記複数のマークから選択される少なくとも２つのマークの一部とが共通するように実施される。【選択図】図３