ELECTRON MICROSCOPE STAGE

To provide a positioning system and a method for accurately holding a workpiece within a charged particle beam system.SOLUTION: An electron microscope positioning system 110 includes a first carriage with a holder for holding a workpiece W, and a second carriage. The first carriage is coupled to one...

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1. Verfasser: ALBERT VISSCHER
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a positioning system and a method for accurately holding a workpiece within a charged particle beam system.SOLUTION: An electron microscope positioning system 110 includes a first carriage with a holder for holding a workpiece W, and a second carriage. The first carriage is coupled to one or more first drive units configured such that the workpiece W is positioned along first, second, and third axes, and along the first tilt axis. The second carriage accommodates one or more first drive units and is coupled to one or more second drive units configured such that the workpiece W is positioned along a second tilt axis.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】ワークピースを荷電粒子ビームシステム内に、正確に保持するためのポジショニングシステムと方法を提供する。【解決手段】電子顕微鏡用ポジショニングシステム110は、ワークピースWを保持するためのホルダを備える第1のキャリッジと、第2のキャリッジとを含む。第1のキャリッジは、ワークピースWを、第1、第2、および第3の軸に沿って、ならびに第1の傾斜軸に沿ってポジショニングするように構成された1つ以上の第1の駆動ユニットに結合されている。第2のキャリッジは、1つ以上の第1の駆動ユニットを収容し、ワークピースWを第2の傾斜軸に沿ってポジショニングするように構成された1つ以上の第2の駆動ユニットに結合されている。【選択図】図1