PRODUCTION METHOD OF ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELD FILM

To provide a production method for obtaining an inexpensive electromagnetic wave shield film having high reliability through a small number of production processes.SOLUTION: A production method of an electromagnetic wave shield film having a protective layer, a shield layer having an opening, and an adhesive layer is provided, which includes, after one of the steps (A), (B), (C) below, forming the adhesive layer or the protective layer on the shield layer, then removing a substrate, and forming the protective layer or the adhesive layer on a surface of the shield layer where the substrate is removed. (A) On one surface of a substrate having an opening pattern, a shield layer having an opening corresponding to the above opening pattern is formed. (B) After the shield layer is formed on one surface of the substrate, an opening of the shield layer is formed by a method other than an etching method. (C) A shield layer is formed on one surface of the substrate having a rugged pattern.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】少ない製造工程で低コストかつ信頼性の高い電磁波シールドフィルムを得るための製造方法を提供すること。【解決手段】保護層と、開口部を有するシールド層と、接着剤層とを有する電磁波シールドフィルムの製造方法であって、下記（Ａ）、（Ｂ）または（Ｃ）のいずれかの工程を経た後、シールド層上に接着剤層または保護層を形成した後に基材を除去し、基材を除去したシールド層の面上に保護層または接着剤層を形成する、電磁波シールドフィルムの製造方法。（Ａ）開口パターンを有する基材の一面に、当該開口パターンに対応する開口部を有するシールド層を形成する工程（Ｂ）基材の一面にシールド層を形成した後にシールド層の開口部をエッチング法以外の方法によって形成する工程（Ｃ）凹凸パターンを有する基材の一面に、シールド層を形成する工程【選択図】図１