SEMICONDUCTOR DEVICE

To form an active area laminated on a PZT (lead zirconate titanate (PbZrTiO3)) sensor having a piezoelectric effect.SOLUTION: A semiconductor device has a PZT (lead zirconate titanate (PbZrTiO3)) sensor, and the PZT sensor has a lower electrode 101 that is formed on a glass substrate 100, a PZT 102,...

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Hauptverfasser: ITOGA TOSHIHIKO, KAITO TAKUO
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To form an active area laminated on a PZT (lead zirconate titanate (PbZrTiO3)) sensor having a piezoelectric effect.SOLUTION: A semiconductor device has a PZT (lead zirconate titanate (PbZrTiO3)) sensor, and the PZT sensor has a lower electrode 101 that is formed on a glass substrate 100, a PZT 102, an upper electrode 103, a first inorganic insulating film 104 that covers the upper electrode, and upper wiring 105 that is formed on the first inorganic insulating film 104 and is in contact with the upper electrode 103 through a first through hole 130 formed on the inorganic insulating film 104. A polyimide film 106 is formed covering the PZT sensor. An active area is formed on the polyimide film 106. The thickness of the polyimide film 106 is 5 μm or more.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】圧電効果を有するPZT(チタン酸ジルコン鉛(PbZrTiO3))センサと積層して、アクティブ領域を形成する。【解決手段】PZT(チタン酸ジルコン鉛(PbZrTiO3))センサを有する半導体装置であって、前記PZTセンサは、ガラス基板100の上に形成された下部電極101、PZT102、上部電極103、前記上部電極を覆う第1の無機絶縁膜104、前記第1の無機絶縁膜104の上に形成され、前記無機絶縁膜104に形成された第1のスルーホール130を介して前記上部電極103と接続した上部配線105を有し、前記PZTセンサを覆ってポリイミド膜106が形成され、前記ポリイミド膜106の上にアクティブ領域が形成され、前記ポリイミド膜106の厚さは、5μm以上であることを特徴とする半導体装置。【選択図】図2