SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus, capable of improving cleaning efficiency.SOLUTION: The present invention provides a method for processing a substrate. According to one embodiment, the method includes a fluid treatment step of processing the substrate by supplying a treatment liquid onto the substrate rotating, and a cleaning step of stopping the supply of the treatment liquid and supplying a cleaning solution onto the substrate. In the cleaning step, a first liquid is discharged from a first nozzle above the substrate rotating to a point spaced apart from the center of the substrate in a first direction, and a second liquid is discharged from a second nozzle to a point spaced apart from the center of the substrate in a second direction. When viewed from above, the first liquid flows toward the second nozzle after impacted onto the substrate, and the first liquid flows toward the first nozzle after impacted onto the substrate. According to one embodiment of the present invention, the collision of deionized water discharged to different positions on the substrate can be prevented.SELECTED DRAWING: Figure 5 【課題】洗浄効率を向上されることができる基板処理方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明は基板を処理する方法を提供する。一実施形態によれば、回転する基板上に処理液を供給して基板を処理する液処理段階と、処理液の供給を中止し、基板上に洗浄液を供給する洗浄段階と、を含み、洗浄段階は、回転する基板の上部で基板の中心で第１方向に離隔された地点に第１ノズルから第１液を吐出し、基板の中心で第２方向に離隔された地点に第２ノズルから第２液を吐出し、上部から見る時、第１液は基板に弾着された後、第２ノズルに向かう方向に流れ、第１液は基板に弾着された後、第１ノズルに向かう方向に流れるように提供されることができる。本発明の一実施形態によれば、基板の上の互いに異なる位置に吐出された脱イオン水が互いに衝突することを防止することができる。【選択図】図５