WAFER TRANSFER SYSTEM

To provide a wafer transfer system capable of preventing foreign matter from adhering to a wafer during transporting the wafer.SOLUTION: A wafer transfer system 10 includes: a robot (conveyance mechanism) 20 that conveys wafer 1; a clean chamber 30; and a fan (first blower mechanism) 40 that forms an airflow from the ceiling 31 to the bottom 32 of the clean chamber 30. The robot 20 includes: a hand unit 22 that holds a wafer 1; a fan (second blower mechanism) 70 that, when the hand unit 22 holds the wafer 1, forms an airflow from the bottom surface 1b side of the wafer 1 to the bottom 32 of the clean chamber 30; and a control unit that controls the drive state of the fan 70 depending on the presence or absence of the wafer 1 held by the hand unit 22.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】ウエハを搬送する際、ウエハへの異物の付着を防止する。【解決手段】ウエハ搬送装置１０は、ウエハ１を搬送するロボット（搬送機構部）２０と、クリーン室３０と、クリーン室３０の天井部３１から底部３２側に向かう気流を形成するファン（第１送風機構部）４０と、を有する。ロボット２０は、ウエハ１を保持するハンド部２２と、ハンド部２２がウエハ１を保持した状態の時、ウエハ１の下面１ｂ側からクリーン室３０の底部３２に向かう気流を形成するファン（第２送風機構部）７０と、ハンド部２２によるウエハ１の保持の有無に応じて、ファン７０の駆動状態を制御する制御部と、を備える。【選択図】図３