METHODS FOR MEASUREMENT

To analyze process variation in terms of its effects on a sensitivity landscape, and use these effects to characterize the process variation further and to optimize measurement.SOLUTION: Methods are provided for deriving a partially continuous dependency of metrology metrics on recipe parameters, analyzing the derived dependency, determining a metrology recipe according to the analysis, and conducting metrology measurement according to the determined recipe. The dependency may be analyzed in the form of a landscape such as a sensitivity landscape. In the landscape, regions of low sensitivity and/or points or contours of low or zero inaccuracy are detected analytically, numerically or experimentally; and the regions and/or points or contours are used to configure parameters of measurement, hardware and targets to achieve high measurement accuracy.SELECTED DRAWING: Figure 11 【課題】プロセス変動が、感度ランドスケープに対するその影響に関して解析され、それらの影響を使用して、プロセス変動をさらに特徴づけ、測定を最適化する。【解決手段】計測メトリックのレシピパラメータに対する部分的に連続な依存性を導出し、導出された依存性を解析し、この解析に従って計測レシピを決定し、決定されたレシピに従って計測測定を実施する方法が提供される。この依存性を、感度ランドスケープなどのランドスケープの形態で解析することができ、このランドスケープ中で、低感度の領域および／または低い不正確さもしくはゼロ不正確さの点もしくはコンタが、解析的、数値的または実験的に検出され、それらの領域および／またはそれらの点もしくはコンタは、測定パラメータ、ハードウェアおよびターゲットを、高い測定正確さを達成するように構成する目的に使用される。【選択図】図１１