PLASMA ABATEMENT OF COMPOUNDS CONTAINING HEAVY ATOMS

To provide a plasma abatement process for abating effluent containing compounds from a processing chamber.SOLUTION: A plasma abatement process takes gaseous foreline effluent from a processing chamber, such as a deposition chamber, and reacts the effluent within a plasma chamber placed in the foreline path. The plasma dissociates compounds within the effluent, converting the effluent into more ecological compounds. Abating reagents may assist in the abating of the compounds. The abatement process may be a volatilizing or condensing abatement process. Representative volatilizing abating reagents include, for example, CH4, H2O, H2, NF3, SF6, F2, HCl, HF, Cl2, and HBr. Representative condensing abating reagents include, for example, H2, H2O, O2, N2, O3, CO, CO2, NH3, N2O, CH4, and combinations thereof.SELECTED DRAWING: Figure 2A 【課題】処理チャンバからの化合物を含有する廃水を軽減するプラズマ軽減プロセスを提供する。【解決手段】プラズマ軽減プロセスは、堆積チャンバなどの処理チャンバからの気体状のフォアライン廃水を取り込み、フォアライン経路内に配置されたプラズマチャンバ内で廃水を反応させる。プラズマは、廃水中の化合物を解離して、廃水をより環境に優しい化合物に変換する。軽減試薬は、化合物の軽減を助けることができる。軽減プロセスは、揮発または凝縮による軽減プロセスとすることができる。代表的な揮発軽減試薬は、たとえば、ＣＨ4、Ｈ2Ｏ、Ｈ2、ＮＦ3、ＳＦ6、Ｆ2、ＨＣｌ、ＨＦ、Ｃｌ2、およびＨＢｒを含む。代表的な凝縮軽減試薬は、たとえば、Ｈ2、Ｈ2Ｏ、Ｏ2、Ｎ2、Ｏ3、ＣＯ、ＣＯ2、ＮＨ3、Ｎ2Ｏ、ＣＨ4、およびこれらの組合せを含む。【選択図】図２Ａ