DILUTE CHEMICAL LIQUID PRODUCTION DEVICE
To provide a dilute chemical liquid production device capable of stably producing a dilute chemical liquid having extremely low concentration of acid, alkali and the like with a simple structure.SOLUTION: A dilute chemical liquid production device 1 has a plunger pump and a chemical liquid supply pi...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide a dilute chemical liquid production device capable of stably producing a dilute chemical liquid having extremely low concentration of acid, alkali and the like with a simple structure.SOLUTION: A dilute chemical liquid production device 1 has a plunger pump and a chemical liquid supply pipe 3 supplying a chemical liquid S from a chemical liquid storage tank. The terminal of the chemical liquid supply pipe 3 is an injection point 11 of the chemical liquid S. The chemical liquid supply pipe 3 is inserted into an approximately central portion of an ultrapure water flow passage 12 being a first piping in a radial direction via a bore through joint 13. A conductivity meter 14 is disposed as conductivity measurement means on the downstream side of the bore through joint 13 becoming the injection point 11, and connected with control means (not illustrated). A plunger pump 4 can be controlled corresponding to a measured value of the conductivity meter 14.SELECTED DRAWING: Figure 2
【課題】 簡単な構造で酸・アルカリ等の極めて低濃度の希薄薬液を安定的に製造することの可能な希薄薬液製造装置を提供する。【解決手段】 希薄薬液製造装置1は、薬液貯槽から薬液Sを供給するプランジャポンプと薬液供給管3とを有する。薬液供給管3の末端は薬液Sの注入点11となっている。この薬液供給管3は、ボアスルー継手13を介して第1の配管である超純水流路12の径方向の略中央にまで挿入されている。そして、注入点11となるボアスルー継手13より下流側には、導電率計測手段としての導電率計14が設けられていて、前述した制御手段(図示せず)に接続しており、導電率計14の測定値に応じてプランジャポンプ4を制御可能となっている。【選択図】 図2 |
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