EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE
To provide an exposure system advantageous in cost and productivity.SOLUTION: The exposure system includes: a first exposure device exposing a first shot region of a substrate; a second exposure device exposing a second shot region other than the first shot region; and a mark forming device forming...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | To provide an exposure system advantageous in cost and productivity.SOLUTION: The exposure system includes: a first exposure device exposing a first shot region of a substrate; a second exposure device exposing a second shot region other than the first shot region; and a mark forming device forming an alignment mark at a position other than the first, and the second region. The first exposure device includes a first mark detection part detecting the alignment mark formed on the substrate by the mark forming device, the second exposure device include a second mark detection part detecting the alignment mark formed on the substrate by the mark forming device, and a correction parameter for correcting an alignment error of the second shot region to the first shot region is determined on the basis of information of the alignment mark detected by the first mark detection part in the first exposure device, and information of the alignment mark detected by the second mark detection part, so that the second shot region is exposed while reflecting the correction parameter.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】コストおよび生産性の点で有利な露光システムを提供すること。【解決手段】基板の第1ショット領域を露光する第1露光装置と、第1ショット領域とは異なる第2ショット領域を露光する第2露光装置と、第1、第2ショット領域とは異なる位置にアライメントマークを形成するマーク形成装置とを含む。第1露光装置は、マーク形成装置によって基板に形成されたアライメントマークを検出する第1マーク検出部を含み、第2露光装置は、マーク形成装置によって前記基板に形成されたアライメントマークを検出する第2マーク検出部を含み、第1露光装置における第1マーク検出部によって検出されたアライメントマークの情報と、第2マーク検出部によって検出されたアライメントマークの情報とに基づいて、第2ショット領域の第1ショット領域に対する配列誤差を補正するための補正パラメータを決定し、該補正パラメータを反映して第2ショット領域を露光する。【選択図】図1 |
---|