PROCESS FOR MANUFACTURING PHENYLEPHRINE RESINATE PARTICLES

To provide a method for manufacturing phenylephrine particles in which sustained effective levels can decrease severity and frequency of side effects seen with high peak plasma levels, with little fluctuation seen when multiple doses of a conventional immediate release formulation are administered.S...

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Hauptverfasser: VINCENT W CHEN, EDWARD A KOCH, LEE DER-YANG, LI SHUN-POR, JOEL WALDMAN
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a method for manufacturing phenylephrine particles in which sustained effective levels can decrease severity and frequency of side effects seen with high peak plasma levels, with little fluctuation seen when multiple doses of a conventional immediate release formulation are administered.SOLUTION: A method comprises: mixing and then filtering a wet cake containing a cation polystyrene sulfonate resin, phenylephrine and an aqueous solution, thereby forming a first phenylephrine loaded resinate; and mixing and then filtering the first phenylephrine loaded resinate and a phenylephrine solution, thereby forming a second phenylephrine loaded resinate; where a weight ratio of phenylephrine to the resin in the wet cake is greater than 1.SELECTED DRAWING: None 【課題】有効濃度が持続することにより、従来の即時放出製剤を複数回投与したときにみられるような変動が少なく、高いピーク血漿濃度でみられる副作用の重篤度及び頻度を低下させることができるフェニレフリン粒子の製造方法の提供。【解決手段】フェニレフリンと水溶液と、カチオン性ポリスチレンスルホン酸樹脂を含む湿ったケークを混合後濾過して、第1のフェニレフリンが搭載された樹脂酸塩を形成する工程、及び、前記第1のフェニレフリンが搭載された樹脂酸塩とフェニレフリン溶液を混合後濾過して、第2のフェニレフリンが搭載された樹脂酸塩を形成する工程、とを含む方法。ここで湿ったケーク中の樹脂の重量に対する、フェニルフリンの重量比は1より大きい。【選択図】なし