SHUTTER MECHANISM
To provide a shutter mechanism which has opening resistance even if an air flow of ventilation airflow is small.SOLUTION: A shutter mechanism for opening/closing a cylindrical conduit 4 in which an airflow flows from an upstream side to a downstream side, is equipped with a shutter plate 5 that rota...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide a shutter mechanism which has opening resistance even if an air flow of ventilation airflow is small.SOLUTION: A shutter mechanism for opening/closing a cylindrical conduit 4 in which an airflow flows from an upstream side to a downstream side, is equipped with a shutter plate 5 that rotates about a rotation shaft 6a provided in the conduit 4, and can be positioned between a shutter open state in which the conduit 4 is opened and a shutter close state in which the conduit 4 is blocked. The shutter plate 5 has a main area 5a blocking a main channel 10 in the shutter close state, and a sub area 5b for blocking a sub channel 11. The sub area 5b is formed to be positioned on an upstream side of the rotation shaft 6a in the shutter close state, on a side cross section of the shutter plate 5 on a plane vertical to the rotation shaft 6a. On an outer edge side of the shutter plate 5 in the sub area 5b, an area thicker than the thickness of the shutter plate 5 in the sub area 5b is formed.SELECTED DRAWING: Figure 2
【課題】送風気流の風量が少ない場合でも開抵抗の小さいシャッター機構を提供する。【解決手段】上流側から下流側へ気流が流れる円筒形状の管路4を開閉するためのシャッター機構であって、管路4内に設けられた回転軸6aを中心に回動し、管路4を開放するシャッター開の状態と、管路4を閉塞するシャッター閉の状態とに位置取ることが可能なシャッター板5を備える。シャッター板5は、シャッター閉の状態においてメイン流路10を塞ぐメイン領域5aとサブ流路11を塞ぐサブ領域5bとを有している。サブ領域5bは、回転軸6aと垂直な平面でのシャッター板5の側断面では、シャッター閉の状態において回転軸6aよりも上流側に位置するように形成され、サブ領域5bにおけるシャッター板5の外縁側には、サブ領域5bにおけるシャッター板5の厚みよりも厚い領域が形成されている。【選択図】図2 |
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