LIQUID CRYSTAL PANEL MANUFACTURING METHOD

To provide a transparency thin film-attached glass panel manufacturing method and transparency thin film-attached crystal display panel manufacturing method that can hold down impacts of side etching accompanied by etching processing to a minimum.SOLUTION: A liquid crystal panel manufacturing method according to the present invention includes at least: a laser irradiation step; a scribe groove formation step. In the laser irradiation step, by irradiating laser light along a shape cut-out schedule line corresponding to a shape of a liquid crystal panel in a multiple chamfering-purpose glass base material 50, a reforming line 20 of a characteristic easy to be subjected to etching is formed in the multiple chamfering-purpose glass base material 50 along the shape cut-out schedule line. The laser irradiation step includes: a normal action mode when a location not adjacent to an electrode terminal part 122 is irradiated with the laser light; and a light condensing area adjustment mode when a location adjacent to the electrode terminal part 122 is irradiated with the laser light. In the light condensing area adjustment mode, a light condensing area is adjusted so as not to reach an intermediate layer.SELECTED DRAWING: Figure 5 【課題】エッチング処理に伴うサイドエッチングの影響を最小限に抑制することが可能な透明性薄膜付ガラスパネル製造方法および透明性薄膜付液晶パネル製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る液晶パネル製造方法は、レーザ照射ステップ、およびスクライブ溝形成ステップを少なくとも含む。レーザ照射ステップでは、多面取り用ガラス母材５０における液晶パネルの形状に対応する形状切断予定線に沿ってレーザ光を照射することによって、形状切断予定線に沿って多面取り用ガラス母材５０にエッチングされ易い性質の改質ライン２０が形成される。レーザ照射ステップは、電極端子部１２２に隣接しない位置にレーザ光を照射するときの通常動作モードと、電極端子部１２２に隣接する位置にレーザ光を照射するときの集光領域調整モードとを含む。集光領域調整モードにおいては、集光領域が中間層に到達しないように集光領域が調整される。【選択図】図５