ION BEAM GENERATING DEVICE AND ION BEAM GENERATING METHOD

To provide an ion beam generation technique capable of outputting different kinds of ion beam from one ion beam generating device comprising two or more beam derivation ports.SOLUTION: An ion beam generating device 1 comprises: gas introduction ports 31, 32 which introduce gases G1, G2 as generation sources for plasmas P1, P2 into a vacuum chamber 2; microwave introduction ports 41, 42 which introduce microwaves M1, M2 into the vacuum chamber 2; magnetic field generation parts 71-74 which generate magnetic fields forming at least two plasma generation regions R1, R2 in the vacuum chamber 2; voltage application parts 11, 12 which apply voltages to the vacuum chamber 2; and two beam derivation ports 61, 62 which are provided corresponding to the plasma generation regions R1, R2 respectively, and derive ion beams B1, B2 from the plasmas P1, P2 generated in the plasma generation regions R1, R2.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】２つ以上のビーム引出し口を備える１つのイオンビーム発生装置から異なる種類のイオンビームを出力することができるイオンビーム発生技術を提供する。【解決手段】イオンビーム発生装置１は、プラズマＰ１，Ｐ２の生成源となるガスＧ１，Ｇ２を真空チャンバ２に導入するガス導入口３１，３２と、マイクロ波Ｍ１，Ｍ２を真空チャンバ２に導入するマイクロ波導入口４１，４２と、真空チャンバ２の内部に少なくとも２つのプラズマ生成領域Ｒ１，Ｒ２を形成する磁場を発生させる磁場発生部７１〜７４と、真空チャンバ２に電圧を印加する電圧印加部１１，１２と、プラズマ生成領域Ｒ１，Ｒ２のそれぞれに対応して設けられ、プラズマ生成領域Ｒ１，Ｒ２にて生成されたプラズマＰ１，Ｐ２からイオンビームＢ１，Ｂ２を引き出す少なくとも２つのビーム引出口６１，６２を備える。【選択図】 図１