THIN FILM CAPACITOR MANUFACTURING METHOD AND THIN FILM CAPACITOR

To provide a thin film capacitor manufacturing method and a thin film capacitor which can suppress an electrode layer from being excessively etched.SOLUTION: A method for manufacturing a thin film capacitor 1 comprises: a lamination step of laminating a plurality of electrode layers (internal electrode layers 11 or base electrode layers 13) and dielectric films 12' each making a dielectric layer 12 so as to alternate, thereby forming a laminate W serving as a capacitance part 10; an etching step of etching the laminate W by a plasma etching device 100 to form an opening 14 extending in a lamination direction; an analyzing step S2 of making analysis of components that plasma contains during the etching step; and a stopping step S4 of stopping the etching when a component detected in analysis in the analyzing step S2 is matched to a component of the electrode layer which is a target.SELECTED DRAWING: Figure 5 【課題】電極層が過度にエッチングされることを抑制可能な薄膜コンデンサの製造方法及び薄膜コンデンサを提供する。【解決手段】薄膜コンデンサ１の製造方法は、複数の電極層（内部電極層１１又は下地電極層１３）と、誘電体層１２となる誘電体膜１２'とを交互に積層して容量部１０となる積層体Ｗを形成する積層工程と、プラズマエッチング装置１００を用いて、積層体Ｗに対してエッチングを行い積層方向に延びる開口１４を形成するエッチング工程と、エッチング工程の最中に、プラズマに含まれる成分を分析する分析工程Ｓ２と、分析工程Ｓ２での分析において検出された成分が目標となる電極層の成分と一致した場合に、エッチングを停止する停止工程Ｓ４と、を含む。【選択図】図５