SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

To provide a substrate processing apparatus capable of measuring exhaust pressure in an exhaust pipe correctly, even in the case of gas containing sublimate.SOLUTION: A sampling port 71 is provided in the exhaust pipe opening 77 of an exhaust pipe 51, and exhaust pressure in the exhaust pipe 51 is m...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: TSUJI TATSUHISA
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a substrate processing apparatus capable of measuring exhaust pressure in an exhaust pipe correctly, even in the case of gas containing sublimate.SOLUTION: A sampling port 71 is provided in the exhaust pipe opening 77 of an exhaust pipe 51, and exhaust pressure in the exhaust pipe 51 is measured by means of a pressure sensor 75. The sampling port 71 includes a distributor 85 covering the opening so as not to be seen. Since the distributor 85 is provided so that an opening 81 communicates with the interior of the exhaust pipe 51 in the direction orthogonal to both the circulation direction of gas in the exhaust pipe 51 and the medial axis of the opening 81, exhaust pressure can be measured by means of the pressure sensor 75. The sublimate contained in the gas adheres to the upstream side of the distributor 85 and deposits thereon, but blockage of the opening 81 due to deposition can be restrained. Exhaust pressure in the exhaust pipe 51 can be measured correctly, even in the case of gas containing sublimate.SELECTED DRAWING: Figure 4 【課題】昇華物を含む気体であっても、排気管内の排気圧力を正確に測定できる基板処理装置を提供する。【解決手段】サンプリングポート71は、排気管51の排気管開口部77に設けられ、排気管51内の排気圧力が圧力センサ75により測定される。このサンプリングポート71は、開口部が見えないように開口部を覆う整流板85を備えている。この整流板85は、排気管51における気体の流通方向と開口部81の中心軸との両方に直交する方向で排気管51の内部に開口部81が連通するように設けられているので、排気圧力を圧力センサ75で測定できる。気体に含まれている昇華物は、整流板85の上流側には付着して堆積するものの、開口部81に堆積して開口部81を閉塞することを抑制できる。昇華物を含む気体であっても、排気管51内の排気圧力を正確に測定できる。【選択図】図4