LIQUID SUPPLY DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND LIQUID SUPPLY METHOD

To provide a liquid supply device that can favorably detect air bubbles in liquid, a substrate processing device and a liquid supply method.SOLUTION: A processing liquid supply device 11 comprises a pump chamber 21, a piston 27, a pressure sensor 29, valves 17-19, a storage part 33 and a control part 31. The control part 31 acquires a detection result detected by the pressure sensor 29. The control part 31 controls the piston 27 and the valves 17-19 so that pressurizing operation is executed. The pressurizing operation is operation by which pressure in the pump chamber 21 is enhanced by pressing of the pump chamber 21 by the piston 27 with the valves 17-19 closing the pump chamber 21. The control part 31 further executes determination processing for determining whether or not air bubbles are included in the pump chamber 21 on the basis of the detection result detected by the pressure sensor 29 during execution of the pressurizing operation and reference information stored in the storage part 33.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】液体中の気泡を好適に検知できる液体供給装置、基板処理装置および液体供給方法を提供する。【解決手段】処理液供給装置１１は、ポンプ室２１とピストン２７と圧力センサ２９と弁１７−１９と記憶部３３と制御部３１を備える。制御部３１は、圧力センサ２９によって検出された検出結果を取得する。制御部３１は、ピストン２７と弁１７−１９を制御することによって加圧動作を実行させる。加圧動作は、弁１７−１９がポンプ室２１を閉塞している状態においてピストン２７がポンプ室２１を押圧することより、ポンプ室２１の圧力を高くする動作である。制御部３１は、さらに、加圧動作の実行中に検出された圧力センサ２９の検出結果と記憶部３３に記憶される基準情報とに基づいて、ポンプ室２１が気泡を含むか否かを判定する判定処理を実行する。【選択図】図１