HEAT TREATMENT EQUIPMENT

To provide heat treatment equipment enabling the maintenance period thereof to be prolonged by suppressing a growth of a film thickness of a reaction by-product to a blocking member hermetically sealing a reaction chamber.SOLUTION: In the heat treatment equipment, a quarts film forming delay cover covering a surface, on a reaction chamber side, of a closing member is detachably arranged with respect to the closing member. The reaction chamber is formed in a reaction tube. An air-supply adapter is arranged between the reaction tube and the closing member. The air-supply adapter includes a side surface part formed with a connection port to which a gas supply tube for supplying a process gas to the reaction chamber is connected. The film forming delay cover is formed in a cylinder shape having bottoms, and has a side surface part coming close to and opposite to an inner circumferential surface of the side surface part of the supply adapter. The film forming delay cover is also formed in a cylinder shape having a part pushing-out to a center of the reaction chamber from an upper end of the side surface part. A notch part through the gas supply tube connected to the connection port of the supply adapter passes is formed in the side surface part and the pushed-out part of the film formation delay cover.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】反応室を密閉する閉塞部材への反応副生成物の膜厚の成長を抑制して、メンテナンス周期を長くすることが可能な熱処理装置を提供する。【解決手段】熱処理装置において、閉塞部材の反応室側の面を覆う石英製の成膜遅延カバーが、閉塞部材に対して着脱自在に配設されている。ここで、反応室は、反応管内に形成されている。また、反応管と閉塞部材との間には給気アダプタが配置されている。そして、給気アダプタは、反応室へプロセスガスを供給するためのガス供給管が接続される接続口が形成された側面部を有している。成膜遅延カバーは、給気アダプタの側面部の内周面に近接対向する側面部を有する有底筒状であって且つ当該側面部の上端から反応室の中心に向かって迫り出した部分を有する形状に形成されており、成膜遅延カバーの側面部及び迫り出した部分には、給気アダプタの接続口に接続されたガス供給管が通る切り欠きが形成されている。【選択図】図１