SYSTEM AND METHOD FOR ICPMS MATRIX OFFSET CALIBRATION

To provide a system and a method for calibrating an analytical instrument analyzing a plurality of consecutive sample matrices.SOLUTION: A system may include: a sample analysis device configured to receive a plurality of samples from a plurality of remote sampling systems 104 and to determine intens...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KYLE W UHLMEYER, MICHAEL P FIELD, DANIEL R WIEDERIN, LEE JAE SEOK
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a system and a method for calibrating an analytical instrument analyzing a plurality of consecutive sample matrices.SOLUTION: A system may include: a sample analysis device configured to receive a plurality of samples from a plurality of remote sampling systems 104 and to determine intensity of one or more species of target contained in each of the plurality of samples; and a controller configured to generate a primary calibration curve on the basis of analysis of a first standard solution having a first sample matrix by the sample analysis device and generate at least one secondary calibration curve on the basis of analysis of a second standard solution having a second sample matrix by the sample analysis device. The controller is configured to associate the at least one secondary calibration curve with the primary calibration curve according to a matrix correction factor.SELECTED DRAWING: Figure 1A 【課題】連続する複数のサンプルマトリックスを分析する分析機器を較正するためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】複数の遠隔サンプリングシステム104から複数のサンプルを受け取り、複数のサンプルのそれぞれに含まれる1つ又は複数の対象種の強度を決定するように構成されたサンプル分析装置と、コントローラであって、サンプル分析装置による第1サンプルマトリックスを有する第1標準溶液の分析に基づいて一次較正曲線を生成し、サンプル分析装置による第2サンプルマトリックスを有する第2標準溶液の分析基づいて少なくとも1つの二次較正曲線を生成するように構成され、コントローラは、マトリックス補正係数に従って少なくとも1つの二次較正曲線を一次較正曲線と関連付けるように構成される、コントローラとを含み得る。【選択図】図1A