INSPECTION SYSTEM, IMAGE PROCESSING APPARATUS, AND INSPECTION METHOD
To achieve high accuracy of conduction inspection.SOLUTION: In an inspection system having a microscope for scanning a specimen with a beam of charged particles, and a control arrangement for controlling the microscope, the control arrangement executes an acquisition processing for acquiring multipl...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To achieve high accuracy of conduction inspection.SOLUTION: In an inspection system having a microscope for scanning a specimen with a beam of charged particles, and a control arrangement for controlling the microscope, the control arrangement executes an acquisition processing for acquiring multiple images related to the brilliance based on the detection amount of signal electrons from the specimen, as a result of irradiating the specimen with the beam, by controlling the microscope by multiple image acquisition conditions, i.e., multiple combinations of different beam irradiation amount per unit length, a first generation processing for generating multiple actual survey profiles indicating the relation of the irradiation position of the beam and the brilliance of the specimen, on the basis of the multiple images acquired by the acquisition processing, and an output processing for outputting the conduction characteristics of the specimen, on the basis of the multiple actual survey profiles generated by the first generation processing.SELECTED DRAWING: Figure 8
【課題】導通検査の高精度化を図ること。【解決手段】試料へ荷電粒子であるビームを走査する顕微鏡と、前記顕微鏡を制御する制御装置と、を有する検査システムでは、前記制御装置は、単位長さあたりの前記ビームの照射量が異なる複数通りの組み合わせである複数の画像取得条件により前記顕微鏡を制御して、前記試料に前記ビームが照射された結果、前記試料からの信号電子の検出量に基づく輝度に関する複数の画像を取得する取得処理と、前記取得処理によって取得された複数の画像に基づいて、前記試料における前記ビームの照射位置と前記試料の輝度との関係を示す複数の実測プロファイルを生成する第1生成処理と、前記第1生成処理によって生成された複数の実測プロファイルに基づいて、前記試料の導通特性を出力する出力処理と、を実行する。【選択図】図8 |
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