EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

To suppress decrease in exposure accuracy.SOLUTION: An exposure apparatus includes: a holding stage 10 for holding a semiconductor wafer 110; an adjusting unit 20 for displacing the holding stage 10; a focus sensor 30 for outputting a detection signal corresponding to a surface height of a photoresi...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: ICHIKAWA HARUHITO, TAKEI SHINYA
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To suppress decrease in exposure accuracy.SOLUTION: An exposure apparatus includes: a holding stage 10 for holding a semiconductor wafer 110; an adjusting unit 20 for displacing the holding stage 10; a focus sensor 30 for outputting a detection signal corresponding to a surface height of a photoresist 100; an exposure unit 60 for transferring a pattern formed in a photomask onto the photoresist 100 by shot exposure; and a control unit 70 for controlling the adjusting unit 20, the focus sensor 30 and the exposure unit 60. The control unit 70 controls at least either the adjusting unit 20 or the focus sensor 30 in such a manner that detection signals corresponding to surface heights of a plurality of detection positions in a portion of the photoresist 100 subjected to the shot exposure are input, and controls the adjusting unit 20 on the basis of the plurality of detection signals to displace the holding stage 10 by tilting, so as to reduce a difference in the surface height at the plurality of detection positions compared to a height difference before tilting the holding stage 10.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】露光精度が低下することを抑制する。【解決手段】半導体ウェハ110を保持する保持ステージ10と、保持ステージ10を変位させる調整部20と、フォトレジスト100の表面高さに応じた検出信号を出力するフォーカスセンサ30と、フォトマスクに形成されたパターンをショット露光してフォトレジスト100に転写する露光部60と、調整部20、フォーカスセンサ30、および露光部60を制御する制御部70と、を備える。そして、制御部70は、フォトレジスト100のうちのショット露光される部分における複数の検出位置の表面高さに応じた検出信号が入力されるように調整部20およびフォーカスセンサ30の少なくとも一方を制御し、複数の検出信号に基づき、調整部20を制御して保持ステージ10を傾ける変位をさせることにより、保持ステージ10を傾ける前に対して複数の検出位置における表面高さの差を小さくするようにする。【選択図】図1