SYSTEM FOR DETECTING AND CORRECTING HIGH LEVEL PROCESS CONTROL PARAMETER WITH PROBLEM

To provide a system for monitoring and controlling feedback control in a manufacturing process.SOLUTION: A system includes a treatment device which can be controlled by a plurality of control parameters, and a controller communicatively connected to the treatment device, and constituted to specify a...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DAVID TIEN, CHOI DONGSUB
Format:	Patent
Sprache:	eng ; jpn
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	To provide a system for monitoring and controlling feedback control in a manufacturing process.SOLUTION: A system includes a treatment device which can be controlled by a plurality of control parameters, and a controller communicatively connected to the treatment device, and constituted to specify at least one control parameter with a problem in the plurality of control parameters related to a process control model used for controlling the treatment device based on process control parameters.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】製造プロセスにおけるフィードバック制御の監視及び制御のためのシステムを提供する。【解決手段】システムは、複数の制御パラメータによって制御可能な処理装置と、処理装置に通信可能に接続されたコントローラであって、プロセス制御パラメータに基づいて、処理装置を制御するために利用されるプロセス制御モデルに関連する複数の制御パラメータの中の少なくとも１つの問題のある制御パラメータを特定するように構成されたコントローラと、を含む。【選択図】図１