CYCLOTRON AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME

To provide cyclotrons, control systems of cyclotrons, and methods of making or using the same.SOLUTION: A cyclotron 101 includes an acceleration chamber 120, a vacuum system 160, an ion source system 106, and a control system 112 that is configured to determine at least one operating parameter as a...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: NILS TYNELIUS, OSKAR SVEDBERG, ERIK KOFFMAR, JOHN HANS MELIN
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide cyclotrons, control systems of cyclotrons, and methods of making or using the same.SOLUTION: A cyclotron 101 includes an acceleration chamber 120, a vacuum system 160, an ion source system 106, and a control system 112 that is configured to determine at least one operating parameter as a particle beam is directed along a beam path of the cyclotron 101. The at least one operating parameter is associated with an amount of gas molecules within the acceleration chamber 120. The control system 112 is configured to decrease a supply of charged particles for the particle beam on the basis of the at least one operating parameter. The particle beam continues after decreasing the supply of the charged particles. The control system 112 is also configured to increase the supply of the charged particles for the particle beam after a predetermined time period or in response to determining that the amount of gas molecules has reduced on the basis of the at least one operating parameter.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】サイクロトロン、サイクロトロンの制御システム、およびそれらを製造または使用する方法を提供する。【解決手段】サイクロトロン101は、加速チャンバ120と、真空システム160と、イオン源システム106と、粒子ビームがサイクロトロン101のビーム経路に沿って誘導されるときに少なくとも1つの動作パラメータを決定するように構成される制御システム112とを含む。少なくとも1つの動作パラメータは、加速チャンバ120内のガス分子の量に関連する。制御システム112は、少なくとも1つの動作パラメータに基づいて粒子ビームの荷電粒子の供給を減少させるように構成される。粒子ビームは、荷電粒子の供給を減少させた後も継続する。制御システム112は、所定の時間後に、または少なくとも1つの動作パラメータに基づいてガス分子の量が低減したと決定したことに応答して粒子ビームの荷電粒子の供給を増加させるように構成される。【選択図】図1