DOUBLE-SIDED POLISHING DEVICE

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a double-sided polishing device capable of horizontally maintaining an upper mold platen during dressing while restraining deterioration of workability when dressing the upper mold platen.SOLUTION: A double-sided polishing device 1 for polishing both sides of a workpiece by the lower and upper mold platens 2 and 3 is configured by: a driver 10 penetrating the lower mold platen 2 and rotating around a shaft; a support mechanism (elevating actuator 9, alignment bearing 9b) suspension-supporting the upper mold platen 3 swingably and rotatably; a hook 20 provided on the peripheral edge of a central opening of the upper mold platen 3; a groove 11 formed on the peripheral face of the driver 10 and capable of inserting the hook 20 when a relative rotation angle of the upper mold platen 3 and driver 10 in a circumferential direction is a prescribed angle; a contact region formed on the upper face 10c of the driver 10; and a protrusion 13 provided on the contact region to contact with the hook 20.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】上定盤をドレッシングする際の作業性の低下を抑制しつつ、ドレッシング中に上定盤を水平に維持することができる両面研磨装置を提供すること。【解決手段】下定盤２と上定盤３によってワークの両面を研磨する両面研磨装置１において、下定盤２を貫通すると共に、軸周りに回転するドライバー１０と、上定盤３を揺動可能且つ回転可能に吊り下げ支持する支持機構（昇降用アクチュエータ９,調芯軸受９ｂ）と、上定盤３の中心開口の周縁に設けられたフック２０と、ドライバー１０の周面に形成されて上定盤３とドライバー１０との周方向の相対回転角度が所定の角度のときにフック２０を挿入可能な溝部１１と、ドライバー１０の上面１０ｃに形成された当接領域と、当接領域に設けられてフック２０が接触する突起部１３と、を備えた構成とした。【選択図】図１