FOCUSED ION BEAM APPARATUS
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam apparatus arranged so that a leading end of an emitter tip can be adjusted with high precision without worsening focusing and alignment characteristics of an FIB optical system.SOLUTION: A focused ion beam apparatus comprises: a vacuum container; a...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam apparatus arranged so that a leading end of an emitter tip can be adjusted with high precision without worsening focusing and alignment characteristics of an FIB optical system.SOLUTION: A focused ion beam apparatus comprises: a vacuum container; an emitter tip disposed in the vacuum container and having a sharpened leading end; a gas field ionization ion source; a focusing lens; a first deflector; a first aperture; an objective lens for focusing an ion beam having gone through the first deflector; and a sample stage. In the focused ion beam apparatus, a signal generating source which reacts to the ion beam in a dot-like region is formed between an optical system having at least the focusing lens, first aperture, first deflector and objective lens, and the sample stage. The focused ion beam apparatus creates a scanning electric field ion microscopic image by the emitter tip while making ion beam scan by the first deflector correspond with signals output by the signal generating source.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】FIB光学系の集束特性やアライメント特性を低下させることなく、エミッタティップの先端の調整を高精度に行うことが可能な集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】真空容器と、前記真空容器内に配置され、先端が先鋭化されたエミッタティップと、ガス電界電離イオン源と、集束レンズと、第1偏向器と、第1アパーチャと、前記第1偏向器を通過した前記イオンビームを集束させる対物レンズと、試料ステージと、を備えた集束イオンビーム装置であって、集束レンズ、第1アパーチャ、第1偏向器および対物レンズとを少なくとも有する光学系と、試料ステージとの間に、イオンビームに対して点状領域で反応する信号発生源を形成し、信号発生源から出力される信号と、第1偏向器によるイオンビームの走査とを対応させて、エミッタティップの走査電界イオン顕微鏡像を生成する。【選択図】図1 |
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