RETICLE DEFECT INSPECTION WITH SYSTEMATIC DEFECT FILTER

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and apparatus for inspecting a photolithographic reticle.SOLUTION: A stream of defect data is received from a reticle inspection system. The defect data identifies a plurality of defects that have been detected for a plurality of different portions of a reticle. Before reviewing the defect data to determine whether the reticle passes the inspection and as the stream of defect data continues to be received, some of the defects are automatically grouped with one or more other most recently received defects so as to form groups of substantially matching defects. Before reviewing the defect data to determine whether the reticle passes the inspection and after all of the defect data for the reticle is received, one or more of the groups of defects that have a number above a predetermined threshold are automatically filtered from the defect data so as to form filtered defect data.SELECTED DRAWING: Figure 1A 【課題】フォトリソグラフィレチクルを検査するための方法および装置を提供する。【解決手段】欠陥データのストリームがレチクル検査システムから受け取られ、欠陥データは、レチクルの複数の異なる部分に関して検出された複数の欠陥を識別する。レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつ欠陥データのストリームが続けて受け取られるにつれ、欠陥のいくつかは最も新しく受け取られた他の１つ以上の欠陥と自動的にグループ分けされ、実質的に一致する欠陥のグループを形成する。レチクルが検査を合格するかどうかを判定するために欠陥データを再検討する前、かつレチクルに関する欠陥データのすべてが受け取られた後、所定のしきい値より高い数を有する、欠陥のグループのうちの１つ以上が欠陥データから自動的にフィルタリングされ、フィルタリングされた欠陥データを形成する。【選択図】図１Ａ