SURFACE TREATMENT APPARATUS
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treatment capable of suppressing generation of a defect caused by mixing of dust.SOLUTION: A roller 40 is rotatably fixed on a rotation axis 72 provided projected from a side protection wall 49. The side protection wall 49 is vertically fixed on a lower pro...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treatment capable of suppressing generation of a defect caused by mixing of dust.SOLUTION: A roller 40 is rotatably fixed on a rotation axis 72 provided projected from a side protection wall 49. The side protection wall 49 is vertically fixed on a lower protection wall 47 fixed on an outer wall 39. A suspended plate 64 of a hanger 50 goes through a space 43 between lower protection walls 47 on both sides and supports a clip 52. Liquid 41 such as water fills a space formed with the side protection wall 49, the lower protection walls 47, and the outer wall 39. The liquid 41 fills so as to cover about half of the rotation axis 72. Therefore, the liquid 41 captures fine dust generated by a transportation mechanism to prevent the dust from drafting in the air and going from a space 34 to a substrate 54.SELECTED DRAWING: Figure 4
【課題】 粉塵の混入による不良発生を抑えることのできる表面処理を提供する。【解決手段】 ローラ40は、横防護壁49から突出して設けられた回転軸72に回転可能に固定されている。横防護壁49は、外壁39に固定された下防護壁47に垂直に固定されている。ハンガー50の垂下板64は、両側の下防護壁47の間の空間43を通って、クリップ52を支持している。横防護壁49、下防護壁47、外壁39によって形成された空間に水などの液体41が張られている。液体41は、回転軸72を半分程度覆うように張られている。したがって、液体41により、搬送機構によって発生した微細な粉塵が捕捉され、空気中を漂って空間34から基板54に向かうのを防止することができる。【選択図】 図4 |
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