OPTICAL IMAGING DEVICE

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical imaging device as well as an optical imaging method capable of simply compensating local thermal environmental influences especially to the optical element in consideration of absorption effects of the projection light.SOLUTION: An optical imaging device, in particular for use in microlithography, comprising a mask device for receiving a mask comprising a projection pattern, a projection device with an optical element group, a substrate device for receiving a substrate and an immersion zone. The optical element group is adapted to project the projection pattern onto the substrate and comprises a plurality of optical elements with an immersion element which is at least temporarily located adjacent to the immersion zone during operation. During operation, the immersion zone is located between the immersion element and the substrate and is at least temporarily filled with an immersion medium. According to the invention, a thermal attenuation device is provided, the thermal attenuation device being adapted to reduce fluctuations in the temperature distribution TE of the immersion element induced by the immersion medium.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】投影光の吸収作用を考慮した上で、特に光学素子に対する局所的な熱による環境影響を簡単に補償することを可能にする光学結像装置および光学結像法を提案する。【解決手段】投影パターンを有するマスクを収容するためのマスク装置と、光学素子群を有する投影装置と、基板を収容するための基板装置と、液浸ゾーンとを備える、特にマイクロリソグラフィで使用するための光学結像装置である。光学素子群が、基板に投影パターンを投影するように構成されており、作動中に少なくとも一時的に液浸ゾーンに隣接して配置される液浸素子を有する複数の光学素子を備える。作動中に液浸ゾーンが液浸素子と基盤との間に配置され少なくとも一時的に液浸媒体が充填される。本発明によれば、熱減衰装置が設けられており、この熱減衰装置は、前記液浸媒体によって前記液浸素子の温度分布ＴＥに誘発される変動を減じるように構成されている。【選択図】図２