INACTIVATION PREVENTION METHOD OF FLUORINE RADICAL

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent inactivation of fluorine radical at a low running cost, without using a large scale device.SOLUTION: When supplying fluorine radicals generated in a radical generation source to a processing chamber, an oxidization passivity film is formed previously on the inner surface of a supply pipe by making ozone gas act thereon. By supplying fluorine radicals to the processing chamber through this supply pipe where the oxidization passivity film is formed, inactivation of fluorine radicals in the supply pipe is prevented. Consequently, it is not required to reactivate fluorine radicals in the processing chamber. Furthermore, since responsiveness of the fluorine radicals is maintained at a high level, the amount of material gas to be used as a radical supply source can be reduced.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】大掛かりな装置を用いることなく、低いランニングコストでフッ素ラジカルの失活を防止する。【解決手段】ラジカル発生源で発生させたフッ素ラジカルを処理室に供給するに当たって、予め供給配管の内面にオゾンガスを作用させて酸化不動態膜を形成する。この酸化不動態膜を形成した供給配管を通してフッ素ラジカルを処理室に供給することにより、供給配管内部でのフッ素ラジカルの失活を防止する。このため、処理室内部でフッ素ラジカルを再活性化する必要がない。また、本発明におけるフッ素ラジカルは反応性を高いレベルに維持しているため、ラジカル供給源となる原料ガスの使用量を削減することができる。【選択図】図１